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"Sincerità, innovazione, rigorosità ed efficienza" può essere la persistente concezione della nostra organizzazione per quel lungo termine per stabilire congiuntamente con i clienti per reciproci reciprocità e guadagno reciproco perChina CF4 e CF4 Gas, "Crea valori, al servizio del cliente!" è l'obiettivo che perseguiamo. Speriamo sinceramente che tutti i clienti istituiranno con noi una cooperazione a lungo termine e reciprocamente vantaggiosa. Se desideri ottenere maggiori dettagli sulla nostra azienda, assicurati di contattare con noi ora!
Specifiche | 99,999% |
Ossigeno+argon | ≤1ppm |
Azoto | ≤4 ppm |
Umidità (H2O) | ≤3 ppm |
HF | ≤0,1 ppm |
CO | ≤0,1 ppm |
CO2 | ≤1 ppm |
SF6 | ≤1 ppm |
Halocarbynes | ≤1 ppm |
Impurità totali | ≤10 ppm |
Il tetrafluoride di carbonio è un idrocarburo alogenato con la formula chimica CF4. Può essere considerato un idrocarburo alogenato, metano alogenato, perfluorocarburo o come composto inorganico. Il tetrafluoride di carbonio è un gas incolore e inodore, insolubile in acqua, solubile in benzene e cloroformio. Stabile a temperatura e pressione normali, evitare forti ossidanti, materiali infiammabili o combustibili. Gas non combustibile, la pressione interna del contenitore aumenterà quando esposta a un calore elevato e vi è il pericolo di crack e esplosione. È chimicamente stabile e non infiammabile. Solo il reagente di metallo di ammoniaca-sodio liquido può funzionare a temperatura ambiente. Il tetrafluoride di carbonio è un gas che causa l'effetto serra. È molto stabile, può rimanere nell'atmosfera per molto tempo ed è un gas serra molto potente. Il tetrafluoride di carbonio viene utilizzato nel processo di attacco al plasma di vari circuiti integrati. Viene anche usato come gas laser ed è utilizzato in refrigeranti a bassa temperatura, solventi, lubrificanti, materiali isolanti e refrigeranti per rilevatori a infrarossi. È il gas di attacco al plasma più usato nel settore della microelettronica. È una miscela di gas di alta purezza tetrafluorometano e gas di alta purezza di tetrafluorometano e ossigeno ad alta purezza. Può essere ampiamente usato in silicio, biossido di silicio, nitruro di silicio e vetro fosfosilicato. L'incisione di materiali a film sottile come tungsteno e tungsteno è anche ampiamente utilizzata nella pulizia superficiale di dispositivi elettronici, produzione di celle solari, tecnologia laser, refrigerazione a bassa temperatura, ispezione delle perdite e detergente nella produzione di circuiti stampati. Utilizzato come tecnologia di attacco a bassa temperatura e al plasma a secco per circuiti integrati. Precauzioni per lo stoccaggio: archiviare in un magazzino a gas fresco e ventilato. Tieni lontano dalle fonti di incendio e calore. La temperatura di conservazione non deve superare i 30 ° C. Dovrebbe essere conservato separatamente da combustibili e ossidanti facilmente (combustibili) ed evitare la conservazione mista. L'area di stoccaggio deve essere dotata di attrezzature per il trattamento di emergenza di perdita.
① refrigerante:
Il tetrafluorometano viene talvolta usato come refrigerante a bassa temperatura.
② Incisione:
È usato nella microfabrificazione elettronica da solo o in combinazione con l'ossigeno come incisione plasmatica per silicio, biossido di silicio e nitruro di silicio.
Prodotto | Carbon Tetrafluoride CF4 | ||
Dimensione del pacchetto | Cilindro da 40ltr | Cilindro da 50ltr | |
Riempimento del peso netto/cil | 30 kg | 38 kg | |
Qty caricato in 20'Nontainer | 250 cyls | 250 cyls | |
Peso netto totale | 7,5 tonnellate | 9,5 tonnellate | |
Peso tara cilindro | 50 kg | 55 kgs | |
Valvola | CGA 580 |
① High Purity, ultima struttura;
②SO produttore di certificati;
③ Consegna FAST;
④ Sistema di analisi di una linea per il controllo di qualità in ogni fase;
⑤ High Requisite e meticoloso processo per la gestione del cilindro prima del riempimento;