Tetrafluoruro di carbonio (CF4)

Breve descrizione:

Il tetrafluoruro di carbonio, noto anche come tetrafluorometano, è un gas incolore a temperatura e pressione normali, insolubile in acqua. Il gas CF4 è attualmente il gas di attacco al plasma più utilizzato nell’industria microelettronica. Viene utilizzato anche come gas laser, refrigerante criogenico, solvente, lubrificante, materiale isolante e refrigerante per tubi rilevatori a infrarossi.


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Parametri tecnici

Specifica 99,999%
Ossigeno+Argon ≤1 ppm
Azoto ≤4 ppm
Umidità (H2O) ≤3 ppm
HF ≤0,1 ppm
CO ≤0,1 ppm
CO2 ≤1 ppm
SF6 ≤1 ppm
Alocarbine ≤1 ppm
Impurità totali ≤10 ppm

Il tetrafluoruro di carbonio è un idrocarburo alogenato con la formula chimica CF4. Può essere considerato un idrocarburo alogenato, metano alogenato, perfluorocarburo o un composto inorganico. Il tetrafluoruro di carbonio è un gas incolore e inodore, insolubile in acqua, solubile in benzene e cloroformio. Stabile a temperatura e pressione normali, evitare forti ossidanti, materiali infiammabili o combustibili. Gas non combustibile, la pressione interna del contenitore aumenta se esposto a calore elevato e sussiste il pericolo di rotture ed esplosioni. È chimicamente stabile e non infiammabile. Solo il reagente liquido ammoniaca-sodio metallico può funzionare a temperatura ambiente. Il tetrafluoruro di carbonio è un gas che provoca l'effetto serra. È molto stabile, può rimanere a lungo nell'atmosfera ed è un gas serra molto potente. Il tetrafluoruro di carbonio viene utilizzato nel processo di attacco al plasma di vari circuiti integrati. Viene anche utilizzato come gas laser e viene utilizzato in refrigeranti a bassa temperatura, solventi, lubrificanti, materiali isolanti e refrigeranti per rilevatori a infrarossi. È il gas di attacco al plasma più utilizzato nell’industria microelettronica. È una miscela di gas di elevata purezza tetrafluorometano e gas di elevata purezza tetrafluorometano e ossigeno di elevata purezza. Può essere ampiamente utilizzato nel silicio, nel biossido di silicio, nel nitruro di silicio e nel vetro fosfosilicato. L'incisione di materiali a film sottile come tungsteno e tungsteno è ampiamente utilizzata anche nella pulizia superficiale di dispositivi elettronici, nella produzione di celle solari, nella tecnologia laser, nella refrigerazione a bassa temperatura, nell'ispezione delle perdite e nei detergenti nella produzione di circuiti stampati. Utilizzato come refrigerante a bassa temperatura e tecnologia di incisione a secco al plasma per circuiti integrati. Precauzioni per la conservazione: conservare in un magazzino di gas non combustibile fresco e ventilato. Tenere lontano dal fuoco e da fonti di calore. La temperatura di conservazione non deve superare i 30°C. Dovrebbe essere immagazzinato separatamente dai combustibili facilmente (combustibili) e dagli ossidanti ed evitare lo stoccaggio misto. L'area di stoccaggio deve essere dotata di apparecchiature per il trattamento di emergenza delle perdite.

Applicazione:

① Refrigerante:

Il tetrafluorometano viene talvolta utilizzato come refrigerante a bassa temperatura.

  fdrgr greg

② Acquaforte:

Viene utilizzato nella microfabbricazione elettronica da solo o in combinazione con l'ossigeno come agente di attacco al plasma per silicio, biossido di silicio e nitruro di silicio.

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Pacchetto normale:

Prodotto Tetrafluoruro di carbonioCF4
Dimensioni del pacchetto Bombola da 40 litri Bombola da 50 litri  
Peso netto riempimento/cil 30Kg 38Kg  
QTÀ caricata in un contenitore da 20' 250 cil 250 cil
Peso netto totale 7,5 tonnellate 9,5 tonnellate
Tara del cilindro 50Kg 55Kg
Valvola CGA 580

Vantaggio:

①Elevata purezza, struttura all'avanguardia;

②Produttore del certificato ISO;

③Consegna veloce;

④Sistema di analisi on-line per il controllo qualità in ogni fase;

⑤Elevati requisiti e processo meticoloso per la movimentazione del cilindro prima del riempimento;


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