Tetrafluoruro di carbonio (CF4)

Breve descrizione:

Il tetrafluoruro di carbonio, noto anche come tetrafluorometano, è un gas incolore a temperatura e pressione normali, insolubile in acqua. Il gas CF4 è attualmente il gas per l'incisione al plasma più utilizzato nell'industria microelettronica. Viene utilizzato anche come gas laser, refrigerante criogenico, solvente, lubrificante, materiale isolante e refrigerante per tubi rivelatori a infrarossi.


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Parametri tecnici

Specifica 99,999%
Ossigeno+Argon ≤1 ppm
Azoto ≤4 ppm
Umidità (H2O) ≤3 ppm
HF ≤0,1 ppm
CO ≤0,1 ppm
CO2 ≤1 ppm
SF6 ≤1 ppm
Alocarbini ≤1 ppm
Impurità totali ≤10 ppm

Il tetrafluoruro di carbonio è un idrocarburo alogenato con formula chimica CF4. Può essere considerato un idrocarburo alogenato, metano alogenato, perfluorocarburo o un composto inorganico. Il tetrafluoruro di carbonio è un gas incolore e inodore, insolubile in acqua, solubile in benzene e cloroformio. Stabile a temperatura e pressione normali, evitare forti ossidanti, materiali infiammabili o combustibili. Gas non combustibile, la pressione interna del contenitore aumenta se esposto a calore elevato e sussiste il rischio di crepe ed esplosioni. È chimicamente stabile e non infiammabile. Solo il reagente metallico a base di ammoniaca liquida e sodio può funzionare a temperatura ambiente. Il tetrafluoruro di carbonio è un gas che causa l'effetto serra. È molto stabile, può rimanere nell'atmosfera a lungo ed è un gas serra molto potente. Il tetrafluoruro di carbonio viene utilizzato nel processo di incisione al plasma di vari circuiti integrati. Viene utilizzato anche come gas laser e in refrigeranti a bassa temperatura, solventi, lubrificanti, materiali isolanti e refrigeranti per rilevatori a infrarossi. È il gas per l'incisione al plasma più utilizzato nell'industria microelettronica. È una miscela di tetrafluorometano gassoso ad alta purezza e tetrafluorometano gassoso ad alta purezza e ossigeno ad alta purezza. Può essere ampiamente utilizzato in silicio, biossido di silicio, nitruro di silicio e vetro fosfosilicato. L'incisione di materiali a film sottile come tungsteno e tungsteno è ampiamente utilizzata anche nella pulizia superficiale di dispositivi elettronici, nella produzione di celle solari, nella tecnologia laser, nella refrigerazione a bassa temperatura, nell'ispezione delle perdite e come detergente nella produzione di circuiti stampati. Utilizzato come refrigerante a bassa temperatura e nella tecnologia di incisione a secco al plasma per circuiti integrati. Precauzioni per la conservazione: conservare in un magazzino fresco e ventilato per gas non combustibili. Tenere lontano da fuoco e fonti di calore. La temperatura di conservazione non deve superare i 30 °C. Deve essere conservato separatamente da combustibili e ossidanti facilmente infiammabili, evitando lo stoccaggio misto. L'area di stoccaggio deve essere dotata di attrezzature di emergenza per il trattamento delle perdite.

Applicazione:

① Refrigerante:

Il tetrafluorometano viene talvolta utilizzato come refrigerante a bassa temperatura.

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② Incisione:

Viene utilizzato nella microfabbricazione elettronica, da solo o in combinazione con l'ossigeno, come agente di attacco al plasma per silicio, biossido di silicio e nitruro di silicio.

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Pacchetto normale:

Prodotto Tetrafluoruro di carbonioCF4
Dimensioni del pacchetto Cilindro da 40 litri Cilindro da 50 litri  
Peso netto di riempimento/cilindro 30 kg 38 kg  
Quantità caricata in container da 20 piedi 250 cilindri 250 cilindri
Peso netto totale 7,5 tonnellate 9,5 tonnellate
Peso tara del cilindro 50 kg 55 kg
Valvola CGA 580

Vantaggio:

①Alta purezza, impianto all'avanguardia;

②Produttore certificato ISO;

③Consegna veloce;

④Sistema di analisi on-line per il controllo qualità in ogni fase;

⑤Requisiti elevati e processo meticoloso per la movimentazione del cilindro prima del riempimento;


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