Tetrafluoruro di carbonio (CF4)

Breve descrizione:

Il tetrafluoruro di carbonio, noto anche come tetrafluorometano, è un gas incolore a temperatura e pressione normali, insolubile in acqua.Il gas CF4 è attualmente il gas di attacco al plasma più utilizzato nell'industria microelettronica.Viene anche utilizzato come gas laser, refrigerante criogenico, solvente, lubrificante, materiale isolante e refrigerante per tubi rivelatori a infrarossi.


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Parametri tecnici

Specifica 99,999%
Ossigeno+Argon ≤1ppm
Azoto ≤4 ppm
Umidità (H2O) ≤3 ppm
HF ≤0,1 ppm
CO ≤0,1 ppm
CO2 ≤1 ppm
SF6 ≤1 ppm
Alocarbini ≤1 ppm
Impurità totali ≤10 ppm

Il tetrafluoruro di carbonio è un idrocarburo alogenato con la formula chimica CF4.Può essere considerato un idrocarburo alogenato, metano alogenato, perfluorocarburo o un composto inorganico.Il tetrafluoruro di carbonio è un gas incolore e inodore, insolubile in acqua, solubile in benzene e cloroformio.Stabile a temperatura e pressione normali, evitare forti ossidanti, materiali infiammabili o combustibili.Gas non combustibile, la pressione interna del contenitore aumenterà se esposto a calore elevato e sussiste il pericolo di crepe ed esplosioni.È chimicamente stabile e non infiammabile.Solo il reagente liquido ammoniaca-sodio metallico può funzionare a temperatura ambiente.Il tetrafluoruro di carbonio è un gas che provoca l'effetto serra.È molto stabile, può rimanere a lungo nell'atmosfera ed è un gas serra molto potente.Il tetrafluoruro di carbonio viene utilizzato nel processo di attacco al plasma di vari circuiti integrati.Viene utilizzato anche come gas laser e viene utilizzato in refrigeranti a bassa temperatura, solventi, lubrificanti, materiali isolanti e refrigeranti per rilevatori a infrarossi.È il gas di attacco al plasma più utilizzato nell'industria microelettronica.È una miscela di gas ad alta purezza tetrafluorometano e gas ad alta purezza tetrafluorometano e ossigeno ad alta purezza.Può essere ampiamente utilizzato in silicio, biossido di silicio, nitruro di silicio e vetro fosfosilicato.L'attacco di materiali a film sottile come il tungsteno e il tungsteno è anche ampiamente utilizzato nella pulizia superficiale di dispositivi elettronici, produzione di celle solari, tecnologia laser, refrigerazione a bassa temperatura, ispezione delle perdite e detergente nella produzione di circuiti stampati.Utilizzato come refrigerante a bassa temperatura e tecnologia di incisione a secco al plasma per circuiti integrati.Precauzioni per lo stoccaggio: Conservare in un magazzino di gas non combustibile fresco e ventilato.Tenere lontano da fuoco e fonti di calore.La temperatura di conservazione non deve superare i 30°C.Dovrebbe essere immagazzinato separatamente da combustibili e ossidanti facilmente (infiammabili) ed evitare lo stoccaggio misto.L'area di stoccaggio deve essere dotata di attrezzature per il trattamento di emergenza delle perdite.

Applicazione:

① Refrigerante:

Il tetrafluorometano viene talvolta utilizzato come refrigerante a bassa temperatura.

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② Acquaforte:

Viene utilizzato nella microfabbricazione elettronica da solo o in combinazione con l'ossigeno come agente di attacco al plasma per silicio, biossido di silicio e nitruro di silicio.

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Pacchetto normale:

Prodotto Tetrafluoruro di carbonioCF4
Dimensione del pacchetto Cilindro da 40 litri Cilindro da 50 litri  
Peso netto riempimento/cil 30 kg 38 kg  
QTY Caricato in 20'Contenitore 250 cilindri 250 cilindri
Peso netto totale 7,5 tonnellate 9,5 tonnellate
Tara del cilindro 50 kg 55 kg
Valvola CGA 580

Vantaggio:

①Elevata purezza, ultima struttura;

②Produttore certificato ISO;

③Consegna veloce;

④Sistema di analisi in linea per il controllo della qualità in ogni fase;

⑤ Requisiti elevati e processo meticoloso per la movimentazione del cilindro prima del riempimento;


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