Gas speciali
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Tetrafluoruro di zolfo (SF4)
Numero EINECS: 232-013-4
Numero CAS: 7783-60-0 -
Protossido di azoto (N2O)
Il protossido d'azoto, noto anche come gas esilarante, è una sostanza chimica pericolosa con formula chimica N2O. Si presenta come un gas incolore dall'odore dolciastro. L'N2O è un ossidante che può alimentare la combustione in determinate condizioni, ma è stabile a temperatura ambiente e ha un leggero effetto anestetico. Può provocare risate. -
Tetrafluoruro di carbonio (CF4)
Il tetrafluoruro di carbonio, noto anche come tetrafluorometano, è un gas incolore a temperatura e pressione normali, insolubile in acqua. Il CF4 è attualmente il gas di incisione al plasma più utilizzato nell'industria microelettronica. Viene inoltre impiegato come gas laser, refrigerante criogenico, solvente, lubrificante, materiale isolante e refrigerante per tubi rivelatori a infrarossi. -
Fluoruro di solforile (F2O2S)
Il fluoruro di solforile (SO2F2), un gas velenoso, è utilizzato principalmente come insetticida. Grazie alle sue caratteristiche di elevata diffusione e permeabilità, ampio spettro d'azione, basso dosaggio, basso residuo, rapida azione insetticida, breve tempo di dispersione del gas, facilità d'uso a basse temperature, assenza di effetti sulla germinazione e bassa tossicità, il fluoruro di solforile trova sempre più impiego in magazzini, navi mercantili, edifici, dighe, per la prevenzione delle termiti, ecc. -
Silano (SiH4)
Il silano (SiH4) è un gas compresso incolore, tossico e molto reattivo a temperatura e pressione normali. Il silano è ampiamente utilizzato nella crescita epitassiale del silicio, come materia prima per polisilicio, ossido di silicio, nitruro di silicio, ecc., nelle celle solari, nelle fibre ottiche, nella produzione di vetro colorato e nella deposizione chimica da fase vapore (CVD). -
Ottafluorociclobutano (C4F8)
L'ottafluorociclobutano C4F8, con una purezza del gas del 99,999%, è spesso utilizzato come propellente per aerosol alimentari e come gas di media pressione. Viene spesso impiegato nel processo PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) per la produzione di semiconduttori. Il C4F8 è utilizzato come sostituto del CF4 o del C2F6, come gas di pulizia e come gas di incisione per i processi di produzione di semiconduttori. -
Ossido nitrico (NO)
L'ossido di azoto è un composto dell'azoto con formula chimica NO. È un gas incolore, inodore e velenoso, insolubile in acqua. L'ossido di azoto è chimicamente molto reattivo e reagisce con l'ossigeno per formare il gas corrosivo diossido di azoto (NO₂). -
Cloruro di idrogeno (HCl)
Il cloruro di idrogeno (HCl) è un gas incolore dall'odore pungente. La sua soluzione acquosa è chiamata acido cloridrico. Il cloruro di idrogeno viene utilizzato principalmente per la produzione di coloranti, spezie, medicinali, vari cloruri e inibitori di corrosione. -
Esafluoropropilene (C3F6)
L'esafluoropropilene, formula chimica C3F6, è un gas incolore a temperatura e pressione normali. Viene utilizzato principalmente per la preparazione di vari prodotti chimici fini contenenti fluoro, intermedi farmaceutici, agenti estinguenti, ecc., e può essere impiegato anche nella preparazione di materiali polimerici contenenti fluoro. -
Ammoniaca (NH3)
L'ammoniaca liquida/anidra è un'importante materia prima chimica con una vasta gamma di applicazioni. Può essere utilizzata come refrigerante. Viene impiegata principalmente per la produzione di acido nitrico, urea e altri fertilizzanti chimici, e può essere utilizzata anche come materia prima per farmaci e pesticidi. Nell'industria della difesa, trova impiego nella produzione di propellenti per razzi e missili.
